原子尺度揭示高性能钐钴磁体的“完美缺陷”

来源：《自然·通讯》

德国研究联合会团队发现，高性能钐钴磁体的关键并非传统认为的晶界，而是其内部原子尺度的特殊纳米结构。最强磁体在关键相界面处存在仅1-2个原子厚的富铜层，能有效钉扎磁化，抑制退磁。结合显微技术与模拟，研究还证实了“完美缺陷”结构对磁体整体性能的决定性作用。这一发现为绕过试错法、直接设计更高效稳定的永磁体提供了原子级指导。