压力淬火技术将常压超导临界温度提升至151K

来源：Proceedings of the National Academy of Sciences

休斯顿大学团队采用压力淬火法，将汞基铜氧化物陶瓷Hg1223在常压下的超导临界温度提升至151K（约零下122摄氏度），打破1993年以来的133K纪录。该方法先在高压下优化材料超导性能，再快速卸压将高温超导态“锁定”。这一进展使常压超导向室温目标更近一步，有望推动电网无损输电、医学成像等应用发展。